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精沖模具內型腔鏡面拋光,磨粒流工藝拋光至Ra0.2μm以下

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編輯時間: 2021-10-15 16:20:19

精沖模具拋光前型腔粗糙度為Ra0.5-0.6μm,拋光單邊去除量不得超過0.001-0.0015mm,要求拋光至Ra0.2μm或以下(鏡面效果)。模具型腔呈齒輪結構,或不規則形狀。

拋光工藝:磨粒流

使用高分子彈性軟磨料,通過擠壓運動,使彈性軟磨料通過精沖模具型腔或待拋光面,精細研磨,達到鏡面效果。

具體拋光過程可參考下圖,因實際加工中,模具是被保護在工裝內看不到磨料運動,所以用下圖作為參考。

拋光效率及效果:

節拍:每件1分鐘左右即可拋光完成(因模具底胚粗糙度較好,且要求去除量較低,所以不需要更長時間。如果底胚粗糙度比較差,可以再多拋1分多鐘)。

 

關于精度保持:

1、通常待拋光面原始粗糙度越好,拋光至鏡面后,去除量越小;

2、根據工件的材質、粗糙度等特性,選擇適宜顆粒度的磨料;

3、通過調節拋光時間、壓力、流速等參數,可控制拋光效果

當然,磨粒流工藝拋光精沖模具,不僅能拋光型腔模具,還可以拋光一些外表面。

 

使用磨粒流工藝對精沖模具型腔拋光,具有以下優點:

1、更均勻:磨粒流拋光工藝,采用軟性磨料作為研磨介質,拋光效果均勻。而傳統拋光方式,極有可能造成拋光不均的現象。

2、更精密:磨粒流拋光,可最大限度地保持工件原始公差,拋光后去除量不過1μ左右。

3、安全環保:斯曼克磨粒流工藝采用環保磨料進行物理研磨,磨料符合環保標準,不產生危險性氣體、粉塵、化學溶液等,環保安全。

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